電子與半導體產業應用：極致潔淨的奈米級製程守護

半導體晶圓代工、光電面板及封裝測試，是所有產業中對氣源品質要求最嚴苛的領域。在奈米級的製程中，極微小的粉塵或分子級的油氣污染（AMC），都會導致整批晶圓報廢，損失動輒數百萬。

應用特色：

半導體廠的氣源分為一般動力氣（CDA）與高純度製程氣。文介規劃的無油螺旋式空壓系統，能穩定提供超低露點、無油、無塵的極致氣源，守護曝光、顯影、蝕刻及晶圓搬運等關鍵工段的產品良率。

規劃重點：

• 超低露點控制：規劃吸附式乾燥機（甚至熱生生型乾燥機），將壓力露點壓低至 -40°～-70°C，防止極細微的氣動元件因微量水氣卡死。
• 多級精密過濾：配置活性碳除油器與 0.01 微米級超精密過濾器，確保空氣中的殘油量低於 0.003mg/m³，達到無塵室使用標準。